三维集成电路高深宽比硅通孔电镀液材料产业化我要咨询 收藏本项目
推荐机构:信阳技术交易市场 项目阶段: 所属领域:集成电路
知识产权情况: 技术交易方式: 意向交易额:
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委托机构 技术经理人
项目名称 三维集成电路高深宽比硅通孔电镀液材料产业化 项目持有人 厦门大学 于大全教授
知识产权情况
项目所属领域 集成电路
项目创新点
原理路线
项目阶段
市场应用与前景 硅通孔是三维集成电路的关键核心技术,然而其电镀液材料由国外所垄断,面临严重的卡脖子问题。团队自主研发电镀液配方,实现8/12英寸晶圆高深宽比硅通孔无空洞填充,硅通孔开口3微米、深宽比大于15:1,达到世界一流水平。申请核心发明专利3项。经济效益方面,该项目可显著提升芯片集成度与性能,满足5G、人工智能等新兴高端芯片应用的市场需求,预计将为企业带来可观的经济回报,推动相关产业链的发展。
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